refactor(nmNum): 将拟合流程改为高度预调和双目标联合 LM
- 保留渗透率高度预调,移除逐参数形状扫描及井储、表皮复查 - 联合 LM 先优化整体形状误差,再优化总误差,共用步长、阻尼和停滞规则 - 形状达标、确认停滞或达到额度后切换目标,两段独立计算迭代和求解额度 - 更新拟合日志和策略元数据,通过编译语法检查及联合 LM 行为验证feature/AutoFit-Optimize-20260914
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529655f205